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Functional wet chemicals are formulated wet chemicals to achieve specific functions in semiconductor manufacturing. At present, Anji offers post-etch residue remover (PERR), photoresist stripper, post CMP cleaning solution and etchant. PERR, photoresist stripper and post CMP cleaning are used in volume production in 8 inch and 12 inch integrated circuit (IC) manufacturing process.

化学机械抛光是集成电路芯片制造过程中实现晶圆全局均匀平坦化的关键工艺，化学机械抛光液是化学机械抛光工艺过程中使用的主要化学材料。根据抛光对象不同，公司化学机械抛光液包括铜及铜阻挡层抛光液、介电材料抛光液、钨抛光液、基于氧化铈磨料的抛光液、衬底抛光液和用于新材料新工艺的抛光液等产品。目前公司铜及铜阻挡层系列化学机械抛光液，可以满足国内芯片制造商的需求，并已在海外市场实现突破；其他系列化学机械抛光液已供应国内外多家芯片制造商，具体生产规模会根据客户需求量进行调节。